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  • 方案名称:微电子工业【收藏】【打印】
  • 方案简介:
  •      集成电路光刻工艺的尺寸是推动洁净度要求向前发展的决定性因素。技术越进步,尺寸就越小(如下表)。如果落在集成电路上的粒子大于最小光刻尺寸的1%~2%,就会使集成电路成为废品。金属粒子、离子、细菌等都是产生废品的元凶。空气洁净度的好坏直接影响集成电路生产的成品率。

方案详情:

 年 份

1987

1993

1998

2000

2006

2012

信息容量兆比特(M),千兆比特(Γ)

1-4M

16-64M

256M

64Γ

最小光刻尺寸,微米

0.8-1.0

0.35-0.6

0.25

0.15

0.10

0.05

要求洁净室的级别

4

3-4

2

2

<1

<1

 

微电子产品的功能要求越来越高,投资规模越来越大,对质量水平的要求越发严格。我们的超高效过滤器可以成功的过滤0.1微米的粒子,在

未来的时间里,将开发、生产更高效率的空气过滤技术与之相适应是我们义不容辞的责任。

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